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四轴激光图形化直写设备
制造厂商: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
生产国别: 中国
分类编码: 010804
购置日期: 2018-12-25
规格型号: Microlab
仪器加盟状态:

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详细信息与指标

制造厂商: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
生产国别: 中国
分类编码: 010804
购置日期: 2018-12-25
规格型号: Microlab
仪器加盟状态:
功能/应用范围: 分析
主要附件: 制作微米级器件的微结构,如光学器件(光栅,光子晶体,光波导)电学器件,二极管,晶体管等,纳米桥,超导器件等。
主要技术指标参数: "最小结构尺寸0.2um 具有三个不同分辨率的光学镜头,支持基底厚度1-15mm支持Z轴基底翘曲100um 支持扫描曝光,灰度曝光,拖曳曝光 书写速度不小于10mm2/min@0.5um;40mm2/min@0.5um;80mm2/min@0.5um; 套刻精度小于等于500nm 支持256阶3D灰度光刻"
技术特色:
服务实例: 暂无